ISSN: 2310-757X
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/80832| Название: | Influence of the focused ion beam parameters on the etching of planar nanosized multigraphene/SiC field emitters |
| Авторы: | Jityaev, I. L. Svetlichnyi, A. M. Avilov, V. I. Kots, I. N. Kolomiytsev, A. S. Ageev, O. A. |
| Дата публикации: | 2018 |
| Издатель: | Ural Federal University |
| Библиографическое описание: | Influence of the focused ion beam parameters on the etching of planar nanosized multigraphene/SiC field emitters / I. L. Jityaev, A. M. Svetlichnyi, V. I. Avilov, I. N. Kots, A. S. Kolomiytsev, O. A. Ageev // Scanning Probe Microscopy. Abstract Book of International Conference (Ekaterinburg, August 25-28, 2019). — Ekaterinburg, Ural Federal University, 2018. — p. 131. |
| URI: | http://elar.urfu.ru/handle/10995/80832 |
| Конференция/семинар: | International Conference "Scanning Probe Microscopy" ; International Workshop "Modern Nanotechnologies" ; International Youth Conference "Functional Imaging of Nanomaterials" |
| Дата конференции/семинара: | 26.08.2018-29.08.2018 |
| ISBN: | 978-5-9500624-1-4 |
| Сведения о поддержке: | The equipment of the Collective Usage Center “Nanotechnologies” and the Research and Educational Center "Nanotechnologies" of Southern Federal University was used for this study. This work was funded by Internal grant of Southern Federal University No. VnGr-07/2017-26. |
| Источники: | International Conference "Scanning Probe Microscopy" ; International Workshop "Modern Nanotechnologies" ; International Youth Conference "Functional Imaging of Nanomaterials". — Ekaterinburg, 2018 |
| Располагается в коллекциях: | Scanning Probe Microscopy |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 978-5-9500624-1-4_2018_091.pdf | 265,25 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.