ISSN: 2310-757X
Статистика
Посещений всего
| Посещения | |
|---|---|
| Influence of the focused ion beam parameters on the etching of planar nanosized multigraphene/SiC field emitters | 119 |
Посещений по месяцам
| октября 2024 | ноября 2024 | декабря 2024 | января 2025 | февраля 2025 | марта 2025 | апреля 2025 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Influence of the focused ion beam parameters on the etching of planar nanosized multigraphene/SiC field emitters | 4 | 3 | 6 | 2 | 4 | 0 | 4 |
Загрузок
| Посещения | |
|---|---|
| 978-5-9500624-1-4_2018_091.pdf | 67 |
Посещений по странам
| Посещения | |
|---|---|
| Соединенные Штаты | 42 |
| Россия | 29 |
| Германия | 11 |
| Австралия | 5 |
| Франция | 5 |
| Сенегал | 4 |
| Финляндия | 3 |
| Вьетнам | 3 |
| Армения | 2 |
| Бразилия | 2 |
Посещений по городам
| Посещения | |
|---|---|
| Moscow | 14 |
| Ashburn | 6 |
| Hanoi | 3 |
| Des Moines | 2 |
| Lakemba | 2 |
| Noril'sk | 2 |
| San Mateo | 2 |
| St Petersburg | 2 |
| Adelaide | 1 |
| Balashikha | 1 |