Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/79113
Название: | Formation of vacuum electronics elements by a combination of methods of focused ion beams and plasma layer etching on SiC |
Авторы: | Rezvan, A. A. Klimin, V. S. Kots, I. N. |
Дата публикации: | 2019 |
Издатель: | Ural Federal University |
Библиографическое описание: | Rezvan A. A. Formation of vacuum electronics elements by a combination of methods of focused ion beams and plasma layer etching on SiC / A. A. Rezvan, V. S. Klimin, I. N. Kots // Scanning Probe Microscopy. Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials. Abstract Book of Joint International Conference (Ekaterinburg, August 25-28, 2019). — Ekaterinburg, Ural Federal University, 2019. — P. 240. |
URI: | http://elar.urfu.ru/handle/10995/79113 |
Конференция/семинар: | 3rd International Conference "Scanning Probe Microscopy" ; 4th Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials ; International Youth Conference "Functional Imaging of nanomaterials" |
Дата конференции/семинара: | 25.08.2019-28.08.2019 |
ISBN: | 978-5-9500624-2-1 |
Сведения о поддержке: | This work was supported by Grant of the President of the Russian Federation No. МК-3512.2019.8 and Southern Federal University (grant VnGr-07/2017-02). The results were obtained using the equipment of the Research and Education Center "Nanotechnologies" of Southern Federal University. |
Источники: | Scanning Probe Microscopy. Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials. — Ekaterinburg, 2019 |
Располагается в коллекциях: | Scanning Probe Microscopy |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
978-5-9500624-2-1_2019_196.pdf | 156,71 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.