Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/79113
Название: Formation of vacuum electronics elements by a combination of methods of focused ion beams and plasma layer etching on SiC
Авторы: Rezvan, A. A.
Klimin, V. S.
Kots, I. N.
Дата публикации: 2019
Издатель: Ural Federal University
Библиографическое описание: Rezvan A. A. Formation of vacuum electronics elements by a combination of methods of focused ion beams and plasma layer etching on SiC / A. A. Rezvan, V. S. Klimin, I. N. Kots // Scanning Probe Microscopy. Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials. Abstract Book of Joint International Conference (Ekaterinburg, August 25-28, 2019). — Ekaterinburg, Ural Federal University, 2019. — P. 240.
URI: http://elar.urfu.ru/handle/10995/79113
Конференция/семинар: 3rd International Conference "Scanning Probe Microscopy" ; 4th Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials ; International Youth Conference "Functional Imaging of nanomaterials"
Дата конференции/семинара: 25.08.2019-28.08.2019
ISBN: 978-5-9500624-2-1
Сведения о поддержке: This work was supported by Grant of the President of the Russian Federation No. МК-3512.2019.8 and Southern Federal University (grant VnGr-07/2017-02). The results were obtained using the equipment of the Research and Education Center "Nanotechnologies" of Southern Federal University.
Источники: Scanning Probe Microscopy. Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials. — Ekaterinburg, 2019
Располагается в коллекциях:Scanning Probe Microscopy

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
978-5-9500624-2-1_2019_196.pdf156,71 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.