Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/51135
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorZatsepin, A. F.en
dc.contributor.authorBuntov, E. A.en
dc.contributor.authorKortov, V. S.en
dc.contributor.authorPustovarov, V. A.en
dc.contributor.authorFitting, H. -J.en
dc.contributor.authorSchmidt, B.en
dc.contributor.authorGavrilov, N. V.en
dc.contributor.authorПустоваров, В. А.ru
dc.date.accessioned2017-09-04T14:45:22Z-
dc.date.available2017-09-04T14:45:22Z-
dc.date.issued2012-
dc.identifier.citationLow-temperature photoluminescence of ion-implanted SiO2: Sn+ films and glasses / A. F. Zatsepin, E. A. Buntov, V. S. Kortov, V. A. Pustovarov, H. -J. Fitting, B. Schmidt, N. V. Gavrilov // Journal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques. — 2012. — Vol. 6. — № 4. — P. 668-672.en
dc.identifier.issn1027-4510-
dc.identifier.other1good_DOI
dc.identifier.other4a13c76d-b6ef-4fe3-824a-4d5daf335f03pure_uuid
dc.identifier.otherhttp://www.scopus.com/inward/record.url?partnerID=8YFLogxK&scp=84865514171m
dc.identifier.urihttp://elar.urfu.ru/handle/10995/51135-
dc.description.abstractLow-temperature photoluminescence spectroscopy with pulsed synchrotron excitation is applied to study the regularities of excitation and relaxation of both point defects and nanoparticles formed by tin implantation into SiO 2 films and glasses. It has been found that tin implantation followed by air and nitrogen annealing yields the formation of α-Sn nanoclusters and nonstoichiometric SnO x nanoparticles, while a stable phase of SnO 2 does not appear. Alternative channels of luminescence excitation are revealed for nanoclusters, including energy transfer from excitons and electron-hole pairs of the host SiO 2 matrix. © 2012 Pleiades Publishing, Ltd.en
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isoenen
dc.sourceJournal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniquesen
dc.titleLow-temperature photoluminescence of ion-implanted SiO2: Sn+ films and glassesen
dc.typeArticleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleen
dc.identifier.rsi20471870-
dc.identifier.doi10.1134/S1027451012080198-
dc.identifier.scopus84865514171-
local.contributor.employeeЗацепин Анатолий Федоровичru
local.contributor.employeeБунтов Евгений Александровичru
local.contributor.employeeКортов Всеволод Семеновичru
local.contributor.employeeПустоваров Владимир Алексеевичru
local.description.firstpage668-
local.description.lastpage672-
local.issue4-
local.volume6-
dc.identifier.wos000307342700022-
local.contributor.departmentФизико-технологический институтru
local.identifier.pure1080996-
local.identifier.eid2-s2.0-84865514171-
local.identifier.wosWOS:000307342700022-
Располагается в коллекциях:Научные публикации ученых УрФУ, проиндексированные в SCOPUS и WoS CC

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
10.1134-S1027451012080198.pdf314,73 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.