Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/51135
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Zatsepin, A. F. | en |
dc.contributor.author | Buntov, E. A. | en |
dc.contributor.author | Kortov, V. S. | en |
dc.contributor.author | Pustovarov, V. A. | en |
dc.contributor.author | Fitting, H. -J. | en |
dc.contributor.author | Schmidt, B. | en |
dc.contributor.author | Gavrilov, N. V. | en |
dc.contributor.author | Пустоваров, В. А. | ru |
dc.date.accessioned | 2017-09-04T14:45:22Z | - |
dc.date.available | 2017-09-04T14:45:22Z | - |
dc.date.issued | 2012 | - |
dc.identifier.citation | Low-temperature photoluminescence of ion-implanted SiO2: Sn+ films and glasses / A. F. Zatsepin, E. A. Buntov, V. S. Kortov, V. A. Pustovarov, H. -J. Fitting, B. Schmidt, N. V. Gavrilov // Journal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques. — 2012. — Vol. 6. — № 4. — P. 668-672. | en |
dc.identifier.issn | 1027-4510 | - |
dc.identifier.other | 1 | good_DOI |
dc.identifier.other | 4a13c76d-b6ef-4fe3-824a-4d5daf335f03 | pure_uuid |
dc.identifier.other | http://www.scopus.com/inward/record.url?partnerID=8YFLogxK&scp=84865514171 | m |
dc.identifier.uri | http://elar.urfu.ru/handle/10995/51135 | - |
dc.description.abstract | Low-temperature photoluminescence spectroscopy with pulsed synchrotron excitation is applied to study the regularities of excitation and relaxation of both point defects and nanoparticles formed by tin implantation into SiO 2 films and glasses. It has been found that tin implantation followed by air and nitrogen annealing yields the formation of α-Sn nanoclusters and nonstoichiometric SnO x nanoparticles, while a stable phase of SnO 2 does not appear. Alternative channels of luminescence excitation are revealed for nanoclusters, including energy transfer from excitons and electron-hole pairs of the host SiO 2 matrix. © 2012 Pleiades Publishing, Ltd. | en |
dc.format.mimetype | application/pdf | en |
dc.language.iso | en | en |
dc.source | Journal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques | en |
dc.title | Low-temperature photoluminescence of ion-implanted SiO2: Sn+ films and glasses | en |
dc.type | Article | en |
dc.type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion | en |
dc.type | info:eu-repo/semantics/article | en |
dc.identifier.rsi | 20471870 | - |
dc.identifier.doi | 10.1134/S1027451012080198 | - |
dc.identifier.scopus | 84865514171 | - |
local.contributor.employee | Зацепин Анатолий Федорович | ru |
local.contributor.employee | Бунтов Евгений Александрович | ru |
local.contributor.employee | Кортов Всеволод Семенович | ru |
local.contributor.employee | Пустоваров Владимир Алексеевич | ru |
local.description.firstpage | 668 | - |
local.description.lastpage | 672 | - |
local.issue | 4 | - |
local.volume | 6 | - |
dc.identifier.wos | 000307342700022 | - |
local.contributor.department | Физико-технологический институт | ru |
local.identifier.pure | 1080996 | - |
local.identifier.eid | 2-s2.0-84865514171 | - |
local.identifier.wos | WOS:000307342700022 | - |
Располагается в коллекциях: | Научные публикации ученых УрФУ, проиндексированные в SCOPUS и WoS CC |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
10.1134-S1027451012080198.pdf | 314,73 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.