Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10995/30459
Title: Фазозарождение кремния на стеклоуглероде в расплаве KF-KCl-K2SiF6
Other Titles: Silicon phase origin on glassy carbon in KF-KCl-K2SiF6 fusion
Authors: Жук, С. И.
Минченко, Л. М.
Чемезов, О. В.
Малков, В. Б.
Исаков, А. В.
Зайков, Ю. П.
Zhuk, S. I.
Minchenko, L. M.
Chemezov, O. V.
Malkov, V. B.
Isakov, A. V.
Zaikov, Yu. P.
Issue Date: 2014
Citation: Фазозарождение кремния на стеклоуглероде в расплаве KF-KCl-K2SiF6 / С. И. Жук, Л. М. Минченко, О. В. Чемезов, В. Б. Малков, А. В. Исаков, Ю. П. Зайков // Chimica Techno Acta. — 2014. — Vol. 1. № 2. — С. 67-72.
Abstract: Silicon nucleation process was invesigated in melt KF-KCl-K2SiF6 on glassy carbon substrates at 675 ºС by chronoamperometric method. Using data of the chronoamperograms the linear dependence I – τ3/2 was constructed. That fact testified the progressive nucleation mode of silicon. As seem from SEM micrographs silicon crystals obtained by a single pulse had different sizes, that also confirmed the progressive nucletion mode.
Методом хроноамперометрии изучено зарождение кремния на стеклоуглеродной подложке в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при температуре 675 ºС. Выявлено прогрессивное фазозарождение кремния. Из SEM-микрофотографий зародышей кремния, выращенных на стеклоуглеродной подложке в потенциостатическом режиме в интервале потенциалов от –0.005 до –0.03 В в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при Т = 675 ºС, видно, что в условиях одного эксперимента они имеют размеры, различающиеся в несколько раз, что подтверждает прогрессирующий характер возникновения зародышей кремния. Показано, что когда к рабочему электроду при прочих равных условиях прикладывается более отрицательное значение потенциала относительно кремниевого электрода сравнения, то количество сформировавшихся зародышей на поверхности электрода растет.
Keywords: METHOD OF CHRONOAMPEROMETRY
GLASS-CARBON SUBSTRATE
ELECTROCHEMISTRY
SILICON
МЕТОД ХРОНОАМПЕРОМЕТРИИ
СТЕКЛОУГЛЕРОДНАЯ ПОДЛОЖКА
ЭЛЕКТРОХИМИЯ
КРЕМНИЙ
URI: http://hdl.handle.net/10995/30459
RSCI ID: https://elibrary.ru/item.asp?id=23233194
ISSN: 2409-5613
DOI: http://dx.doi.org/10.15826/chimtech.2014.1.2.1047
Origin: Chimica Techno Acta. 2014. Vol. 1. № 2.
Appears in Collections:Chimica Techno Acta

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
cta-2014-2-05.pdf592,34 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.