Erratum to: Stability of a Two-Layer Silicene on a Nickel Substrate upon Intercalation of Lithium (Glass Physics and Chemistry, (2020), 46, 4, (321-328), 10.1134/S1087659620040069)

Galashev, A. Y.; Rakhmanova, O. R.

doi:10.1134/S108765962030001X

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://elar.urfu.ru/handle/10995/101389

Название:	Erratum to: Stability of a Two-Layer Silicene on a Nickel Substrate upon Intercalation of Lithium (Glass Physics and Chemistry, (2020), 46, 4, (321-328), 10.1134/S1087659620040069)
Авторы:	Galashev, A. Y. Rakhmanova, O. R.
Дата публикации:	2020
Издатель:	Pleiades journals
Библиографическое описание:	Galashev A. Y. Erratum to: Stability of a Two-Layer Silicene on a Nickel Substrate upon Intercalation of Lithium (Glass Physics and Chemistry, (2020), 46, 4, (321-328), 10.1134/S1087659620040069) / A. Y. Galashev, O. R. Rakhmanova. — DOI 10.1134/S108765962030001X // Glass Physics and Chemistry. — 2020. — Vol. 46. — Iss. 5. — P. 440-.
Аннотация:	The title of the article should read as follows: Stability of a Two-Layer Silicene on a Nickel Substrate upon Intercalation of Lithium. Corresponding author of the article and his e-mail should read as follows: A.Y. Galashev; e-mail: alexander-galashev@yandex.ru. The original article can be found online at https://doi.org/10.1134/S1087659620040069 © 2020, Pleiades Publishing, Ltd.
URI:	http://elar.urfu.ru/handle/10995/101389
Условия доступа:	info:eu-repo/semantics/openAccess
Идентификатор РИНЦ:	45329747
Идентификатор SCOPUS:	85092630888
Идентификатор WOS:	000579286000013
Идентификатор PURE:	009054ad-7697-45fa-a223-0f1466c4de0a 14151288
ISSN:	10876596
DOI:	10.1134/S108765962030001X
Сведения о поддержке:	Dr. Gill reports grants from Astellas, personal fees from Astellas, and personal fees from Sanofi, outside the submitted work. Dr. Kim reports grants from Astellas Pharma Canada, and grants from Pfizer Canada, outside the submitted work. Dr. Knoll reports grants from Astellas Canada, outside the submitted work. All of the remaining authors have nothing to disclose.
Располагается в коллекциях:	Научные публикации ученых УрФУ, проиндексированные в SCOPUS и WoS CC

Файлы этого ресурса:

Файл	Описание	Размер	Формат
2-s2.0-85092630888.pdf		77,88 kB	Adobe PDF	Просмотреть/Открыть

Показать полное описание ресурса Статистика

Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.