ISSN: 2310-757X
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/99223| Название: | Annealing dependence of exchange bias in Fe20Ni80/NixMn100-x thin films |
| Авторы: | Moskalev, M. E. Lepalovskij, V. N. Vas’kovskiy, V. O. |
| Дата публикации: | 2016 |
| Издатель: | УрФУ |
| Библиографическое описание: | Moskalev M. E. Annealing dependence of exchange bias in Fe20Ni80/NixMn100-x thin films / M. E. Moskalev, V. N. Lepalovskij, V. O. Vas’kovskiy // Физика. Технологии. Инновации : тезисы докладов III Международной молодежной научной конференции (Екатеринбург, 16–20 мая 2016 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2016. — C. 49-50. |
| URI: | http://elar.urfu.ru/handle/10995/99223 |
| Конференция/семинар: | III Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации» |
| Дата конференции/семинара: | 16.05.2016-20.05.2016 |
| Сведения о поддержке: | This work has been supported by the Ministry of Education and Science of the Russian Federation, project RFMEFI57815X0125. |
| Источники: | Физика. Технологии. Инновации (ФТИ-2016). — Екатеринбург, 2016 |
| Располагается в коллекциях: | Конференции, семинары |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| fti_2016_018.pdf | 533,17 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.