Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/98360
Название: Insertion of silica into nanoporous alumina by chemical deposition technique
Авторы: Yuferov, Y. V.
Arnautov, A. I.
Zykov, F. M.
Chukin, A. V.
Kudyakova, V. S.
Shishkin, R. A.
Дата публикации: 2019
Издатель: ООО «Издательство учебно-методический центр УПИ»
Библиографическое описание: Insertion of silica into nanoporous alumina by chemical deposition technique / Y. V. Yuferov, A. I. Arnautov, F. M. Zykov, A. V. Chukin, V. S. Kudyakova, R. A. Shishkin // Физика. Технологии. Инновации : тезисы докладов VI Международной молодежной научной конференции, посвященной 70-летию основания Физико-технологического института УрФУ (Екатеринбург, 20–24 мая 2019 г.). — Екатеринбург : ООО «Издательство учебно-методический центр УПИ», 2019. — C. 374-375.
Аннотация: This paper presents an experimental consideration of the deposition of silicon dioxide in a nanoporous material. The matrix was filled in organic media containing tetraethoxysilane. The analysis of the obtained product on XRD, silica, was carried out using scanning electron microscopy in combination with EDX analysis. The characteristics of the filling of nanopo-rous materials by chemical precipitation from organic liquid media are considered. Electro-physical characteristics of the obtained composite were studied.
URI: http://elar.urfu.ru/handle/10995/98360
Конференция/семинар: VI Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации», посвященной 70-летию основания Физико-технологического института УрФУ
Дата конференции/семинара: 20.05.2019-24.05.2019
ISBN: 978-5-8295-0640-7
Источники: Физика. Технологии. Инновации (ФТИ-2019). — Екатеринбург, 2019
Располагается в коллекциях:Конференции, семинары

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
978-5-8295-0640-7_2019_211.pdf139,88 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.