Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/88046
Название: Термостабильность атомных и электронных структур при формировании интерфейсов графена и силицена на подложках металлов
Другие названия: THERMOSTABILITY OF ATOMIC AND ELECTRONIC STRUCTURE WITH THE INTERFACE FORMATION OF GRAPHENE AND SILICON ON A SUBSTRATES METALS
Авторы: Митрофанова, Н. С.
Курбанова, Э. Д.
Ригмант, Л. К.
Полухин, В. А.
Mitrofanova, N. S.
Kurbanova, E. D.
Rigmant, E. D.
Polukhin, V. A.
Дата публикации: 2015
Издатель: Уральский федеральный университет
Библиографическое описание: Термостабильность атомных и электронных структур при формировании интерфейсов графена и силицена на подложках металлов / Н. С. Митрофанова, Э. Д. Курбанова, Л. К. Ригмант, В. А. Полухин // II Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации. ФТИ-2015» : тезисы докладов (Екатеринбург, 20–24 апреля 2015 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2015. — C. 99-101.
Аннотация: Analyzing MD simulation data on the thermic evolution of G/M, Si/M interface there are have been established the specificities and criteria of functional stability of atomic, electron (conserving Dirac cone) structures, as main condition of exelant electronic properties (superconductivity including).
URI: http://elar.urfu.ru/handle/10995/88046
Конференция/семинар: II Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации. ФТИ-2015»
Second International Youth Scientific Conference «Physics. Technologies. Innovations. PTI-2015»
Дата конференции/семинара: 20.04.2015-24.04.2015
ISBN: 978-5-8295-0349-9
Источники: Физика. Технологии. Инновации (ФТИ-2015). — Екатеринбург, 2015
Располагается в коллекциях:Конференции, семинары

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
978-5-8295-0349-9_2015_056.pdf389,72 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.