ISSN: 2310-757X
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/73469| Название: | Dielectric Permittivity Enhancement by Charged Domain Walls Formation in Stoichiometric Lithium Niobate |
| Авторы: | Esin, A. A. Akhmatkhanov, A. R. Shur, V. Ya. Шур, В. Я. |
| Дата публикации: | 2016 |
| Издатель: | Knowledge E |
| Библиографическое описание: | Esin A. A. Dielectric Permittivity Enhancement by Charged Domain Walls Formation in Stoichiometric Lithium Niobate / A. A. Esin, A. R. Akhmatkhanov, V. Ya. Shur // KNE Materials Science. — 2016. — Vol. 2016. — P. 57-63. — DOI: 10.18502/kms.v1i1.563. |
| URI: | http://elar.urfu.ru/handle/10995/73469 |
| Идентификатор WOS: | 000395106000011 |
| Идентификатор PURE: | 1689528 |
| ISSN: | 2519-1438 |
| DOI: | 10.18502/kms.v1i1.563 |
| Располагается в коллекциях: | Научные публикации ученых УрФУ, проиндексированные в SCOPUS и WoS CC |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 10.18502-kms.v1i1.563.pdf | 2 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.