Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10995/50272
Title: Определение толщины гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока
Other Titles: Thickness determinination of electroplated Ni-P, Sn-Bi and Sn-Pb coatings by atomic emission spectrometry with a direct current glow discharge
Authors: Чичерская, А. Л.
Пупышев, А. А.
Chicherskaia, A. L.
Pupyshev, A. A.
Issue Date: 2015
Publisher: Уральский федеральный университет
Citation: Чичерская А. Л. Определение толщины гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока / А. Л. Чичерская, А. А. Пупышев // Аналитика и контроль. — 2015. — № 1. — С. 21-31.
Abstract: Метод атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом позволяет определять химический состав покрытий и их толщину, проводить послойный анализ. Используя значения скорости катодного распыления покрытий различного химического состава можно проводить атомно-эмиссионное определение толщины их покрытий по единому градуировочному графику. Для реализации этого способа изготовлен комплект образцов сравнения с покрытием Ni-P. Образцы аттестованы по толщине покрытия с применением регламентированных химического, металлографического и рентгенофлуоресцентного методов анализа. С использованием атомно-эмиссионного спектрометра с тлеющим разрядом постоянного тока в оптимальных операционных параметрах, обеспечивающих плоское дно кратера прожига, получена градуировочная зависимость толщины покрытия Ni-P от времени его катодного травления. Показано, что метрологические показатели данного метода контроля толщины покрытий Ni-P не хуже, чем для методов, регламентируемых ГОСТ. Изготовлены образцы покрытий Sn-Bi и Sn-Pb. Регламентируемыми методами анализа определена толщина этих покрытий, установлены оптимальные операционные параметры тлеющего разряда, обеспечивающие плоское дно кратера, измерены абсолютные и относительные скорости распыления покрытий в тлеющем разряде постоянного тока. С использованием атомно-эмиссионной градуировочной зависимости для покрытия Ni-P и установленных относительных скоростей распыления на ряде образцов определена толщина покрытий Sn-Bi и Sn-Pb Показано, что метрологические показатели данного метода контроля не хуже, чем методами, регламентируемыми ГОСТ. Разработана и аттестована методика измерения толщины покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока.
Glow discharge atomic emission spectrometry allows determining the chemical composition of the coatings and their thickness as well as to conduct the depth analysis. Atomic-emission determination of the coating thickness on a single calibration curve can be performed by using the sputtering rates of coatings with different chemical composition. To realize this method the set of comparative samples with Ni-P coating was made. Samples are certified for the coating thickness by a regulated chemical, metallographic and X-ray fluorescence analysis methods. Using the atomic emission spectrometer with a dc glow discharge under optimal operating parameters, which provides a flat bottom of the crater, the calibration curve for dependence of the Ni-P coating thickness against its cathode etching was obtained. It is shown that the metrological characteristics of the current method for control of Ni-P coating thickness is not worse than the methods regulated by GOST. Samples of Sn-Bi and Sn-Pb coatings were made. The thickness of the coating was determined by the regulated methods of analysis, the optimal operating parameters of the glow discharge, which provides a flat bottom of the crater, were determined, and the absolute and relative sputtering rates of coatings in dc glow discharge were measured. Using the atomic emission calibration curve for Ni-P coating and established relative rates of sputtering, the thickness of Sn-Bi and Sn-Pb coatings was determined. It is shown that the metrological characteristics of this method are not worse than the methods regulated by GOST. Methodology for measuring the thickness of Ni-P, Sn-Bi and Sn-Pb coatings using atomic emission spectrometry with a dc glow discharge was developed and certified.
Keywords: SN-BI И SN-PB
ATOMIC EMISSION SPECTROMETRY
DC GLOW DISCHARGE
ELECTROPLATING NI-P
SN-BI AND SN-PB
SPUTTERING RATE
OPERATING PARAMETERS OF THE DISCHARGE
THICKNESS OF THE COATING
ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ NI-P
АТОМНО-ЭМИССИОННАЯ СПЕКТРОМЕТРИЯ
ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД ПОСТОЯННОГО ТОКА
СКОРОСТЬ КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ
ОПЕРАЦИОННЫЕ ПАРАМЕТРЫ РАЗРЯДА
ТОЛЩИНА ПОКРЫТИЯ
URI: http://hdl.handle.net/10995/50272
RSCI ID: 23048205
ISSN: 2073-1442 (Print)
2073-1450 (Online)
DOI: 10.15826/analitika.2015.19.1.007
Origin: Аналитика и контроль. 2015. № 1
Appears in Collections:Аналитика и контроль

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
aik_2015_01_21-31.pdf904,73 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.