Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10995/50272
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЧичерская, А. Л.ru
dc.contributor.authorПупышев, А. А.ru
dc.contributor.authorChicherskaia, A. L.en
dc.contributor.authorPupyshev, A. A.en
dc.date.accessioned2017-08-04T06:20:43Z-
dc.date.available2017-08-04T06:20:43Z-
dc.date.issued2015-
dc.identifier.citationЧичерская А. Л. Определение толщины гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока / А. Л. Чичерская, А. А. Пупышев // Аналитика и контроль. — 2015. — № 1. — С. 21-31.ru
dc.identifier.issn2073-1442 (Print)-
dc.identifier.issn2073-1450 (Online)-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10995/50272-
dc.description.abstractМетод атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом позволяет определять химический состав покрытий и их толщину, проводить послойный анализ. Используя значения скорости катодного распыления покрытий различного химического состава можно проводить атомно-эмиссионное определение толщины их покрытий по единому градуировочному графику. Для реализации этого способа изготовлен комплект образцов сравнения с покрытием Ni-P. Образцы аттестованы по толщине покрытия с применением регламентированных химического, металлографического и рентгенофлуоресцентного методов анализа. С использованием атомно-эмиссионного спектрометра с тлеющим разрядом постоянного тока в оптимальных операционных параметрах, обеспечивающих плоское дно кратера прожига, получена градуировочная зависимость толщины покрытия Ni-P от времени его катодного травления. Показано, что метрологические показатели данного метода контроля толщины покрытий Ni-P не хуже, чем для методов, регламентируемых ГОСТ. Изготовлены образцы покрытий Sn-Bi и Sn-Pb. Регламентируемыми методами анализа определена толщина этих покрытий, установлены оптимальные операционные параметры тлеющего разряда, обеспечивающие плоское дно кратера, измерены абсолютные и относительные скорости распыления покрытий в тлеющем разряде постоянного тока. С использованием атомно-эмиссионной градуировочной зависимости для покрытия Ni-P и установленных относительных скоростей распыления на ряде образцов определена толщина покрытий Sn-Bi и Sn-Pb Показано, что метрологические показатели данного метода контроля не хуже, чем методами, регламентируемыми ГОСТ. Разработана и аттестована методика измерения толщины покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного тока.ru
dc.description.abstractGlow discharge atomic emission spectrometry allows determining the chemical composition of the coatings and their thickness as well as to conduct the depth analysis. Atomic-emission determination of the coating thickness on a single calibration curve can be performed by using the sputtering rates of coatings with different chemical composition. To realize this method the set of comparative samples with Ni-P coating was made. Samples are certified for the coating thickness by a regulated chemical, metallographic and X-ray fluorescence analysis methods. Using the atomic emission spectrometer with a dc glow discharge under optimal operating parameters, which provides a flat bottom of the crater, the calibration curve for dependence of the Ni-P coating thickness against its cathode etching was obtained. It is shown that the metrological characteristics of the current method for control of Ni-P coating thickness is not worse than the methods regulated by GOST. Samples of Sn-Bi and Sn-Pb coatings were made. The thickness of the coating was determined by the regulated methods of analysis, the optimal operating parameters of the glow discharge, which provides a flat bottom of the crater, were determined, and the absolute and relative sputtering rates of coatings in dc glow discharge were measured. Using the atomic emission calibration curve for Ni-P coating and established relative rates of sputtering, the thickness of Sn-Bi and Sn-Pb coatings was determined. It is shown that the metrological characteristics of this method are not worse than the methods regulated by GOST. Methodology for measuring the thickness of Ni-P, Sn-Bi and Sn-Pb coatings using atomic emission spectrometry with a dc glow discharge was developed and certified.en
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isoruen
dc.publisherУральский федеральный университетru
dc.relation.ispartofАналитика и контроль. 2015. № 1ru
dc.subjectSN-BI И SN-PBen
dc.subjectATOMIC EMISSION SPECTROMETRYen
dc.subjectDC GLOW DISCHARGEen
dc.subjectELECTROPLATING NI-Pen
dc.subjectSN-BI AND SN-PBen
dc.subjectSPUTTERING RATEen
dc.subjectOPERATING PARAMETERS OF THE DISCHARGEen
dc.subjectTHICKNESS OF THE COATINGen
dc.subjectГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ NI-Pru
dc.subjectАТОМНО-ЭМИССИОННАЯ СПЕКТРОМЕТРИЯru
dc.subjectТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД ПОСТОЯННОГО ТОКАru
dc.subjectСКОРОСТЬ КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯru
dc.subjectОПЕРАЦИОННЫЕ ПАРАМЕТРЫ РАЗРЯДАru
dc.subjectТОЛЩИНА ПОКРЫТИЯru
dc.titleОпределение толщины гальванических покрытий Ni-P, Sn-Bi и Sn-Pb методом атомно-эмиссионной спектрометрии с тлеющим разрядом постоянного токаru
dc.title.alternativeThickness determinination of electroplated Ni-P, Sn-Bi and Sn-Pb coatings by atomic emission spectrometry with a direct current glow dischargeen
dc.typeArticleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.identifier.rsi23048205-
dc.identifier.doi10.15826/analitika.2015.19.1.007-
local.description.firstpage21-
local.description.lastpage31-
local.issue1-
local.volume19-
Appears in Collections:Аналитика и контроль

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
aik_2015_01_21-31.pdf904,73 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.