Поверхностные реакции с участием оксидов молибдена и вольфрама

Abstract

Исследована кинетика поверхностных реакций при одномерном и радиальном (двумерном) распространении диффузанта MoO3 (WO3) по поверхности подложки MeO (Me–Cd, Ni, Pb, Mn, Cu). Предложено кинетическое уравнение, удовлетворительно описывающее скорость поверхностных реакций в случае радиального распространения диффузанта по подложке. Установлено, что при радиальном распространении диффузанта рост слоя на поверхности подложки со временем замедляется и практически полностью прекращается, что связано с оттоком диффузанта вглубь подложки. При одномерном распространении диффузанта поверхностное взаимодействие не замедляется и не прекращается при сколь угодно больших временах.