Импеданс анодных процессов на пассивном NiSi-электроде в сернокислом фторидсодержащем электролите

Abstract

Методами поляризационных и импедансных измерений исследованы механизм и кинетика анодного окисления NiSi-электрода в растворах 0,5 М H2SO4 + (0,005 - 0,05) М NaF в области пассивного состояния. Спектры импеданса интерпретированы в предположении о формировании на поверхности силицида никеля двухслойной оксидной пленки, внешний слой которой имеет пористое строение. Рост пористого слоя при повышении потенциала электрода в исследованных растворах осуществляется по линейному закону (константа анодирования составляет 2,2 нм/В). Увеличение концентрации NaF приводит к снижению толщины пористого слоя. Рост барьерного слоя оксидной пленки описан в рамках модели точечных дефектов. Коэффициент диффузии кислородных вакансий внутри барьерного слоя пленки составляет 8,510-16 см2/с и слабо изменяется с потенциалом и содержанием фторида натрия в растворе. Микроскопические и профилометрические исследования свидетельствуют о развитии поверхности NiSi-электрода в ходе анодного травления.