Please use this identifier to cite or link to this item: http://elar.urfu.ru/handle/10995/107854
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorПопов, А. А.ru
dc.contributor.authorБилевич, Д. В.ru
dc.contributor.authorСидорюк, Т. Ю.ru
dc.contributor.authorСальников, А. С.ru
dc.contributor.authorPopov, A. A.en
dc.contributor.authorBilevich, D. V.en
dc.contributor.authorSidoryuk, T. Y.en
dc.contributor.authorSalnikov, A. S.en
dc.date.accessioned2022-01-26T10:45:58Z-
dc.date.available2022-01-26T10:45:58Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.citationПоведенческая модель плазменного травления на основе метода опорных векторов / А. А. Попов, Д. В. Билевич, Т. Ю. Сидорюк, А. С. Сальников // Физика. Технологии. Инновации (Секции 3, 4, 5) : тезисы докладов IV Международной молодежной научной конференции (Екатеринбург, 15–19 мая 2017 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2017. — C. 24-26.ru
dc.identifier.urihttp://elar.urfu.ru/handle/10995/107854-
dc.description.abstractThe possibility and principles of using support vector machine for modelling plasma-chemical etching process are considered.en
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isoruen
dc.publisherУрФУru
dc.relation.ispartofФизика. Технологии. Инновации. Тезисы докладов (ФТИ-2017). — Екатеринбург, 2017ru
dc.titleПоведенческая модель плазменного травления на основе метода опорных векторовru
dc.title.alternativePLASMA ETCHING BEHAVIORAL MODEL BASED ON SUPPORT VECTOR MACHINEen
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferenceObjecten
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.conference.nameIV Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации»ru
dc.conference.date15.05.2017-19.05.2017-
local.description.firstpage24
local.description.lastpage26
Appears in Collections:Конференции, семинары

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
fti_2017_380.pdf483,4 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.