ТЕРМОЭДС ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР In2O3/SiO2

Chetverikova, A. P.; Kashirin, M. A.; Makagonov, V. A.; Foshin, V. A.; Четверикова, А. П.; Каширин, М. А.; Макагонов, В. А.; Фошин, В. А.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://elar.urfu.ru/handle/10995/106955

Title:	ТЕРМОЭДС ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР In2O3/SiO2
Other Titles:	THERMOEMF OF THIN-FILM STRUCTURES In2O3/SiO2
Authors:	Chetverikova, A. P. Kashirin, M. A. Makagonov, V. A. Foshin, V. A. Четверикова, А. П. Каширин, М. А. Макагонов, В. А. Фошин, В. А.
Issue Date:	2020
Publisher:	УрФУ
Citation:	ТЕРМОЭДС ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР In2O3/SiO2 / А. П. Четверикова, М. А. Каширин, В. А. Макагонов и др. // Физика. Технологии. Инновации : тезисы докладов VII Международной молодежной научной конференции, посвященной 100-летию Уральского федерального университета (Екатеринбург, 18–22 мая 2020 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2020. — C. 728-729.
Abstract:	Thin films (In2O3/SiO2)25 were by ion-beam sputtering. The effect of heat treatment on the phase composition and thermopower is studied. Increasing of annealing temperature – a thermopower was decrease. After annealing, the structure of thin films is preserved up to a temperature of 500°C.
URI:	http://elar.urfu.ru/handle/10995/106955
Conference name:	VII Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации», посвященная 100-летию Уральского федерального университета
Conference date:	18.05.2020-22.05.2020
Sponsorship:	Данная работа выполнена при поддержке РФФИ (Грант №19-48-360010 р_а).
Origin:	Физика. Технологии. Инновации. Тезисы докладов (ФТИ-2020)
Appears in Collections:	Конференции, семинары

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
fti_2020_403.pdf		321,65 kB	Adobe PDF	View/Open

Show full item record