ISSN: 2310-757X
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/106955| Название: | ТЕРМОЭДС ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР In2O3/SiO2 |
| Другие названия: | THERMOEMF OF THIN-FILM STRUCTURES In2O3/SiO2 |
| Авторы: | Chetverikova, A. P. Kashirin, M. A. Makagonov, V. A. Foshin, V. A. Четверикова, А. П. Каширин, М. А. Макагонов, В. А. Фошин, В. А. |
| Дата публикации: | 2020 |
| Издатель: | УрФУ |
| Библиографическое описание: | ТЕРМОЭДС ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР In2O3/SiO2 / А. П. Четверикова, М. А. Каширин, В. А. Макагонов и др. // Физика. Технологии. Инновации : тезисы докладов VII Международной молодежной научной конференции, посвященной 100-летию Уральского федерального университета (Екатеринбург, 18–22 мая 2020 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2020. — C. 728-729. |
| Аннотация: | Thin films (In2O3/SiO2)25 were by ion-beam sputtering. The effect of heat treatment on the phase composition and thermopower is studied. Increasing of annealing temperature – a thermopower was decrease. After annealing, the structure of thin films is preserved up to a temperature of 500°C. |
| URI: | http://elar.urfu.ru/handle/10995/106955 |
| Конференция/семинар: | VII Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации», посвященная 100-летию Уральского федерального университета |
| Дата конференции/семинара: | 18.05.2020-22.05.2020 |
| Сведения о поддержке: | Данная работа выполнена при поддержке РФФИ (Грант №19-48-360010 р_а). |
| Источники: | Физика. Технологии. Инновации. Тезисы докладов (ФТИ-2020) |
| Располагается в коллекциях: | Конференции, семинары |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| fti_2020_403.pdf | 321,65 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.