Автоматизированная установка для синтеза органических покрытий методом термовакуумного нанесения

Abstract

An automated installation based on National Instruments’ control and measurement equipment, vacuum chamber with resistive heater and «ThermoVac» virtual instrument was designed and tested for deposition of thin organic films by vacuum thermal evaporation method. A 5,11-dimethyl-5,11-dihydroindolo[3,2-b]carbazole layer with thickness of 200  50 nm was applied on the surface of fused silica glass, titanium and titanium nitride substrates. Current-voltage characteristics of Ti/IC/Au and TiN/IC/Au/Ti films were studied. It was determined that deposited organic layer had p-type conductivity and charge carriers mobility of 4.9∙10-7 cm2/(V∙s).

На базе контрольно-измерительного оборудования National Instruments, вакуумной камеры с резистивным нагревателем и виртуального прибора «ThermoVac» разработана автоматизированная установка для создания тонких органических пленок методом термовакуумного испарения. Синтезирован слой 5,11-диметил-5,11-дигидроиндоло[3,2-b]карбазола (ИК) толщиной 200  50 нм на подложках из кварцевого стекла, титана и нитрида титана. Показано, что экспериментальные спектры оптического поглощения соответствуют кристаллическим пленкам исследуемого вещества. Измерены вольтамперные характеристики слоистые структуры Ti/ИК/Au и TiN/ИК/Au. Определено, что синтезированный органический слой имеет p-тип проводимость, а подвижность носителей заряда составляет 4.9∙10-7 см2/(В∙с).