Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/99267
Название: Characterization of TiAlSiON coatings deposited by plasma enhanced magnetron sputtering: XRD, XPS, and DFT studies
Авторы: Anokhin, E. S.
Zhidkov, I. S.
Kukharenko, A. I.
Chukin, A. V.
Cholakh, S. O.
Kurmaev, E. Z.
Skorikov, N. A.
Kamenetskih, A. S.
Gavrilov, N. V.
Дата публикации: 2016
Издатель: УрФУ
Библиографическое описание: Characterization of TiAlSiON coatings deposited by plasma enhanced magnetron sputtering: XRD, XPS, and DFT studies / E. S. Anokhin, I. S.Zhidkov, A. I. Kukharenko, A. V. Chukin, S. O. Cholakh, E. Z. Kurmaev, N. A. Skorikov, A. S. Kamenetskih, N. V. Gavrilov // Физика. Технологии. Инновации : тезисы докладов III Международной молодежной научной конференции (Екатеринбург, 16–20 мая 2016 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2016. — C. 348-349.
URI: http://elar.urfu.ru/handle/10995/99267
Конференция/семинар: III Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации»
Дата конференции/семинара: 16.05.2016-20.05.2016
Источники: Физика. Технологии. Инновации (ФТИ-2016). — Екатеринбург, 2016
Располагается в коллекциях:Конференции, семинары

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
fti_2016_219.pdf279,45 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.