Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10995/98529
Title: Изучение стабильности кремниевых комплексов в расплаве KF−KCl−K2SiF6
Other Titles: STUDY OF STABILITY OF SILICON COMPLEXES IN KF−KCl−K2SiF6 MELT
Authors: Воробьёв, А. С.
Исаков, А. В.
Галашев, А. Е.
Issue Date: 2019
Publisher: ООО «Издательство учебно-методический центр УПИ»
Citation: Воробьёв А. С. Изучение стабильности кремниевых комплексов в расплаве KF−KCl−K2SiF6 / А. С. Воробьёв, А. В. Исаков, А. Е. Галашев // Физика. Технологии. Инновации : тезисы докладов VI Международной молодежной научной конференции, посвященной 70-летию основания Физико-технологического института УрФУ (Екатеринбург, 20–24 мая 2019 г.). — Екатеринбург : ООО «Издательство учебно-методический центр УПИ», 2019. — C. 617-618.
Abstract: In this work, the stability of silicon complexes formed in the KF−KCl−K2SiF6 melt was studied by the method of quantum mechanics. The following complexes were considered: fluoride, oxyfluoride and oxide.
URI: http://hdl.handle.net/10995/98529
Conference name: VI Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации», посвященной 70-летию основания Физико-технологического института УрФУ
Conference date: 20.05.2019-24.05.2019
ISBN: 978-5-8295-0640-7
metadata.dc.description.sponsorship: Работа выполнена при финансовой поддержке Российского научного фонда, проект № 18-73-00227.
RSCF project card: 18-73-00227
Origin: Физика. Технологии. Инновации (ФТИ-2019). — Екатеринбург, 2019
Appears in Collections:Конференции, семинары

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
978-5-8295-0640-7_2019_364.pdf315,28 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.