Формирование структуры поверхности сплава системы Al–Si, подвергнутого электронно-пучковой обработке с различной плотностью энергии пучка электронов

Abstract

In this paper electron beam treatment of Al–Si samples was carried out. By means of atomic force microscopy microstructure of two modes with the different energy density of 10 and 30 J/cm2 were investigated. It was established that the model with energy of 30 J/cm 2 is characterized by a fine-grained cellular structure, and also has the smallest roughness of the treated layer.

Методами атомно.силовой микроскопии исследована структура образцов сплава системы Al–Si, обработанных электронным пучком с плотностью энергии пучка электронов 10 и 30 Дж/см 2. Установлено, что режим с энергией 30 Дж/см 2 характеризуется мелкозернистой ячеистой структурой, а также имеет наименьшую шероховатость обработанного слоя.