ISSN: 2310-757X
Статистика
Посещений всего
| Посещения | |
|---|---|
| Masking layer formation on silicon substrate by the focused ion beams method for plasma-chemical treatment | 106 |
Посещений по месяцам
| октября 2024 | ноября 2024 | декабря 2024 | января 2025 | февраля 2025 | марта 2025 | апреля 2025 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Masking layer formation on silicon substrate by the focused ion beams method for plasma-chemical treatment | 6 | 3 | 3 | 4 | 6 | 2 | 6 |
Загрузок
| Посещения | |
|---|---|
| 978-5-9500624-1-4_2018_103.pdf | 56 |
Посещений по странам
| Посещения | |
|---|---|
| Соединенные Штаты | 48 |
| Россия | 20 |
| Германия | 9 |
| Бразилия | 8 |
| Франция | 4 |
| Вьетнам | 3 |
| Армения | 2 |
| Китай | 2 |
| Соединенное Королевство | 2 |
| Сингапур | 2 |
Посещений по городам
| Посещения | |
|---|---|
| Moscow | 14 |
| Des Moines | 3 |
| Hanoi | 3 |
| Placentia | 2 |
| San Mateo | 2 |
| St Petersburg | 2 |
| São Paulo | 2 |
| Andover | 1 |
| Ashburn | 1 |
| Belo Horizonte | 1 |