Дополнительное возбуждение рентгеновской флуоресценции аналита в ненасыщенном слое с помощью подложки

Abstract

Работа посвящена исследованию зависимости интенсивности дополнительной рентгеновской флуоресценции аналита в ненасыщенном слое, лежащем на подложке, излучение которой способно возбуждать флуоресценцию атомов аналита, от толщины слоя. Предложена модель дополнительной рентгеновской флуоресценции, проведены измерения AlKα-линии для ненасыщенных слоев, лежащих на медной подложке. Результаты расчета по модели и измерения показали, что зависимость интенсивности дополнительного излучения аналита от толщины слоя характеризуется максимумом. Наличие этого максимума необходимо учитывать как при измерении толщины, так и при определении химического состава ненасыщенных образцов с применением подложки, излучение которой возбуждает атомы аналита. Эффект можно использовать для снижения предела обнаружения аналита в таких образцах, применяя в анализе слои оптимальной толщины.

This work is devoted to the dependency study between the intensity of the additional x-ray fluorescence of the analyte in the unsaturated layer lying on the substrate, the radiation of which can excite the fluorescence of the atoms of the analyte, and the layer thickness. The model for additional x-ray fluorescence is proposed, and the AlKα line measurements for unsaturated layers on Cu substrate are conducted. Calculation results based on models and measurements have shown that the dependence of the intensity of additional emission of the analyte from the thickness of the layer is characterized by a maximum. The presence of this maximum should be considered when measuring the thickness and chemical composition of unsaturated samples with the use of the substrate, the radiation of which excites the atoms of the analyte. This effect can be used to reduce the detection limit of the analyte in these samples, using the analysis of the optimum thickness of the layers.