Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10995/39631
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorПантелеева, В. В.ru
dc.contributor.authorШеин, А. Б.ru
dc.contributor.authorКаменщиков, О. Ю.ru
dc.date.accessioned2016-05-25T11:22:39Z-
dc.date.available2016-05-25T11:22:39Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationИмпеданс анодных процессов на пассивном NiSi-электроде в сернокислом фторидсодержащем электролите / В. В. Пантелеева, А. Б. Шеин, О. Ю. Каменщиков // Chimica Techno Acta. — 2016. — Vol. 3. № 1. — С. 63-67.ru
dc.identifier.issn2409-5613 (Print)-
dc.identifier.issn2411-1414 (Online)-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10995/39631-
dc.description.abstractМетодами поляризационных и импедансных измерений исследованы механизм и кинетика анодного окисления NiSi-электрода в растворах 0,5 M H2SO4 + (0,005–0,05) M NaF в области пассивного состояния. Спектры импеданса интерпретированы в предположении о формировании на поверхности силицида никеля двухслойной оксидной пленки, внешний слой которой имеет пористое строение. Рост пористого слоя при повышении потенциала электрода в исследованных растворах осуществляется по линейному закону (константа анодирования составляет 2,2 нм/В). Увеличение концентрации NaF приводит к снижению толщины пористого слоя. Рост барьерного слоя оксидной пленки описан в рамках модели точечных дефектов. Коэффициент диффузии кислородных вакансий внутри барьерного слоя пленки составляет 8,5 · 10-16 см2/с и слабо изменяется с потенциалом и содержанием фторида натрия в растворе. Микроскопические и профилометрические исследования свидетельствуют о развитии поверхности NiSi-электрода в ходе анодного травления.ru
dc.description.sponsorshipРабота выполнена при финансовой поддержке РФФИ в рамках научного проекта № 14-03-31016 мол_а.ru
dc.format.mimetypeapplictaion/pdfen
dc.language.isoruen
dc.publisherУральский федеральный университетru
dc.relation.ispartofChimica Techno Acta. 2016. Vol. 3. № 1ru
dc.subjectMETHOD OF IMPEDANCE MEASUREMENTSen
dc.subjectTWO LAYER OXIDen
dc.subjectMETAL MONOSILICICen
dc.subjectМЕТОД ИМПЕДАНСНЫХ ИЗМЕРЕНИЙru
dc.subjectДВУХСЛОЙНАЯ ОКСИДНАЯ ПЛЕНКАru
dc.subjectМОНОСИЛИЦИДЫ МЕТАЛЛОВru
dc.titleИмпеданс анодных процессов на пассивном NiSi-электроде в сернокислом фторидсодержащем электролитеru
dc.typeArticleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.identifier.rsihttps://elibrary.ru/item.asp?id=26007002-
dc.identifier.doi10.15826/chimtech.2016.3.1.005-
local.versionshttp://hdl.handle.net/10995/39630-
local.fund.rffi14-03-31016 мол_а-
Appears in Collections:Chimica Techno Acta

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
cta-2016-1-09.pdf488,4 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.