Учебно-методический комплекс дисциплины "Фотолитография"

Abstract

Целью специальной дисциплины "Фотолитография" является ознакомление студентов с методиками формирования микро- и наноструктур на поверхности различных материалов с помощью методов микро- и нанолитографии. Задачи дисциплины: - изучение основных подходов и методов микро- и нанолитографии, - изучение физических и химических процессов, протекающих в пленках резиста при их нанесении, термической обработке, экспонировании и проявлении, - изучение процессов формирования изображения в слое резиста при его экспонировании в контактной и проекционной фотолитографии, - обзор различных методов нанолитографии, - изучение основ технологий переноса рисунка со слоя фоторезиста на поверхность пластины с помощью нанесения, травления или модификации поверхности, - обзор основных тенденций и перспектив развития микроэлектронной промышленности и технологий микро- и нанолитографии в частности, - ознакомление с технологией чистых помещений, чистых технологических сред и чистых материалов. УМКД включает программу дисциплины, вопросы для самоконтроля, методические указания, экзаменационные материалы, презентации лекций. Предназначен для студентов 4 курса.