Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/142277
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorЗиманов, Д. К.ru
dc.contributor.authorАбрамова, М. М.ru
dc.contributor.authorЕникеев, Н. А.ru
dc.contributor.authorZimanov, D. K.en
dc.contributor.authorAbramova, M. M.en
dc.contributor.authorYenikeev, N. A.en
dc.date.accessioned2025-04-01T07:31:17Z-
dc.date.available2025-04-01T07:31:17Z-
dc.date.issued2025-
dc.identifier.citationВлияние химической полировки на размер пор каркасных структур, полученных методом селективного лазерного плавления / Д. К. Зиманов, М. М. Абрамова, Н. А. Еникеев. — Текст : электронный // Актуальные проблемы физического металловедения сталей и сплавов = Actual Problems of The Physical Metallurgy of Steels and Alloys : сборник статей XXVII Международной научно-технической конференции Уральской школы металловедов-термистов (Екатеринбург, 03–07 февраля 2025 г.). — Екатеринбург : Издательский Дом «Ажур», 2025. — С. 247-251.ru
dc.identifier.isbn978-5-91256-693-6
dc.identifier.urihttp://elar.urfu.ru/handle/10995/142277-
dc.description.abstractВ исследовании рассматривается проблема налипания нерасплавленного порошка на пористые каркасы из титанового сплава, изготовленные методом селективного лазерного плавления (SLM). Пористые титановые сплавы с тройной периодической минимальной поверхностью (TPMS) IWP-структурой были подготовлены для динамической химической полировки. Для оценки их поверхностных свойств была применена динамическая химическая полировка, которая, как предполагается, позволяет удалить прилипший порошок и улучшить качество поверхности. Применение динамической химической полировки привело к обнаружению прямо пропорциональной связи между увеличением размера пор и временем полирования.ru
dc.description.abstractThe study addresses the problem of unmelted powder adhesion on porous titanium alloy frameworks fabricated by selective laser melting (SLM). Porous titanium alloys with triple periodic minimum surface (TPMS) IWP structure were prepared for dynamic chemical polishing. Dynamic chemical polishing was applied to evaluate their surface properties, which is expected to remove adhering powder and improve the surface quality. The application of dynamic chemical polishing led to the discovery of a directly proportional relationship between the increase in pore size and polishing time.en
dc.description.sponsorshipИсследование выполнено при поддержке гранта Российского научного фонда (проект № 23-69-10003).ru
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isoruen
dc.publisherИздательский Дом «Ажур»ru
dc.relation.ispartofXXVII Международная научно-техническая конференция Уральская школа металловедов-термистов "Актуальные проблемы физического металловедения сталей и сплавов". — Екатеринбург, 2025ru
dc.subjectПОРИСТЫЙ КАРКАСru
dc.subjectIWPru
dc.subjectХИМИЧЕСКАЯ ПОЛИРОВКАru
dc.subjectРАЗМЕР ПОРru
dc.subjectПОРОШОКru
dc.subjectSCAFFOLDSen
dc.subjectIWPen
dc.subjectCHEMICAL POLISHINGen
dc.subjectPORE SIZEen
dc.subjectPOWDERen
dc.titleВлияние химической полировки на размер пор каркасных структур, полученных методом селективного лазерного плавленияru
dc.title.alternativeEffect of Chemical Polishing on Pore Size of Scaffolds Produced by The Selective Laser Melting Methoden
dc.typeArticleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.conference.nameXXVII Международная научно-техническая конференция Уральская школа металловедов-термистов "Актуальные проблемы физического металловедения сталей и сплавов", посвященная 100-летию кафедры Термообработки и физики металловru
dc.conference.nameActual Problems of The Physical Metallurgy of Steels and Alloysen
dc.conference.date03.02.2025–07.02.2025
local.description.firstpage247
local.description.lastpage251
local.fund.rsf23-69-10003
Располагается в коллекциях:Конференции, семинары

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
978-5-91256-693-6_2005_050.pdf879,48 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.