ISSN: 2310-757X
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/107720| Название: | Определение критической толщины металлизации тонких пленок |
| Другие названия: | DETERMINATION OF THE CRITICAL THICKNESS OF METALIZATION OF THIN FILMS |
| Авторы: | Алиев, С. А. Aliev, S. A. |
| Дата публикации: | 2017 |
| Издатель: | УрФУ |
| Библиографическое описание: | Алиев С. А. Определение критической толщины металлизации тонких пленок / С. А. Алиев // Физика. Технологии. Инновации (Секция 1) : тезисы докладов IV Международной молодежной научной конференции (Екатеринбург, 15–19 мая 2017 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2017. — C. 49-50. |
| Аннотация: | The critical thickness of metallization of thin films deposited by electron beam deposition is determined. Dependencies of the specific surface resistance on the film thickness are constructed. |
| URI: | http://elar.urfu.ru/handle/10995/107720 |
| Конференция/семинар: | IV Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации» |
| Дата конференции/семинара: | 15.05.2017-19.05.2017 |
| Источники: | Физика. Технологии. Инновации. Тезисы докладов (ФТИ-2017). — Екатеринбург, 2017 |
| Располагается в коллекциях: | Конференции, семинары |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| fti_2017_026.pdf | 592,11 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.