Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/107696
Название: Особенности начальных стадий роста гетероэпитаксиальных пленок GaP/Si при импульсном лазерном напылении
Другие названия: PECULIARITIES OF INITIAL STAGES OF GROWTH OF HETEROEPITAXIAL FILMS GaP/SiAT PULSE LASER DEPOSITION
Авторы: Девицкий, О. В.
Сысоев, И. А.
Devitsky, O. V.
Sysoev, I. A.
Дата публикации: 2017
Издатель: УрФУ
Библиографическое описание: Девицкий О. В. Особенности начальных стадий роста гетероэпитаксиальных пленок GaP/Si при импульсном лазерном напылении / О. В. Девицкий, И. А. Сысоев // Физика. Технологии. Инновации (Секция 2. Химические технологии и материаловедение) : тезисы докладов IV Международной молодежной научной конференции (Екатеринбург, 15–19 мая 2017 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2017. — C. 135-136.
Аннотация: Heteroepitaxial thin GaP/Si films were obtained by pulsed laser sputtering, using the stage of the Osvoldovsky ripening of embryos at the initial stages of film growth. It was found that single-crystal GaP films were obtained during the passage of the stage of the Osvoldovsky maturation of nucleation.
URI: http://elar.urfu.ru/handle/10995/107696
Конференция/семинар: IV Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации»
Дата конференции/семинара: 15.05.2017-19.05.2017
Источники: Физика. Технологии. Инновации. Тезисы докладов (ФТИ-2017). — Екатеринбург, 2017
Располагается в коллекциях:Конференции, семинары

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
fti_2017_238.pdf272,04 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.