Сканирующая зондовая микроскопия кремниевых слоев имплантированных ионами серебра

Abstract

Описан способ формирования нанопористого кремния на поверхности монокристаллического Si при имплантации ионами Ag+. Методами СЗМ и СЭМ показано, что в результате на поверхности Si формируются аморфные слои нанопористого кремния со средними размерами пор ~130 нм, в структуре которых синтезируются наночастицы Ag диаметром от 5 до 20 нм.

An idea to create nanoporous silicon layers by low-energy high-dose Ag-ion implantation was realized. Surface structures were analyzed by scanning electron microscopy and scanning probe microscopy. It is shown that as a result there are a porous structure with a characteristic size ~130 nm on Si surface with Ag nanoparticles (diameter 5-20nm) inside.