Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://elar.urfu.ru/handle/10995/99556
Название: | Синтез тонких пленок нитрида алюминия методом плазмохимического осаждения |
Другие названия: | PLASMA CHEMICAL SYNTHESIS OF THIN FILMS OF ALUMINUM NITRIDE |
Авторы: | Мартемьянов, Н. A. Камалов, Р. В. Вохминцев, А. С. Вайнштейн, И. А. |
Дата публикации: | 2016 |
Издатель: | УрФУ |
Библиографическое описание: | Синтез тонких пленок нитрида алюминия методом плазмохимического осаждения / Н. A. Мартемьянов, Р. В. Камалов, А. С. Вохминцев, И. А. Вайнштейн // Физика. Технологии. Инновации : тезисы докладов III Международной молодежной научной конференции (Екатеринбург, 16–20 мая 2016 г.). — Екатеринбург : УрФУ, 2016. — C. 104-105. |
Аннотация: | Aluminum nitride thin films were grown on a fused quartz, silicon and titanium substrates using the metal organic plasma enhanced chemical vapor deposition (MO-PE CVD). The parameters of the synthesis routine were controlled by the NANOFAB-100 (NT-MDT) plasma-chemical etching and deposition unit. Surface topography and film thickness were characterized by the means of the atomic force microscopy. UV-VIS spectroscopy was applied to measure the optical transmission spectra. Results of the measurements were in a good agreement with the independent data. |
URI: | http://elar.urfu.ru/handle/10995/99556 |
Конференция/семинар: | III Международная молодежная научная конференция «Физика. Технологии. Инновации» |
Дата конференции/семинара: | 16.05.2016-20.05.2016 |
Источники: | Физика. Технологии. Инновации (ФТИ-2016). — Екатеринбург, 2016 |
Располагается в коллекциях: | Конференции, семинары |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
fti_2016_053.pdf | 408,74 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.