Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://elar.urfu.ru/handle/10995/79237
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorLyapunov, N.en
dc.contributor.authorYau, H. M.en
dc.contributor.authorDai, J. Y.en
dc.date.accessioned2019-12-19T12:26:28Z-
dc.date.available2019-12-19T12:26:28Z-
dc.date.issued2019-
dc.identifier.citationLyapunov N. Resistive switching and ferroelectricity in HfO2 thin films / N. Lyapunov, H. M. Yau, J. Y. Dai // Scanning Probe Microscopy. Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials. Abstract Book of Joint International Conference (Ekaterinburg, August 25-28, 2019). — Ekaterinburg, Ural Federal University, 2019. — P. 111.en
dc.identifier.isbn978-5-9500624-2-1-
dc.identifier.urihttp://elar.urfu.ru/handle/10995/79237-
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isoenen
dc.publisherUral Federal Universityen
dc.relation.ispartofScanning Probe Microscopy. Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials. — Ekaterinburg, 2019en
dc.titleResistive switching and ferroelectricity in HfO2 thin filmsen
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferenceObjecten
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.conference.name3rd International Conference "Scanning Probe Microscopy" ; 4th Russia-China Workshop on Dielectric and Ferroelectric Materials ; International Youth Conference "Functional Imaging of nanomaterials"en
dc.conference.date25.08.2019-28.08.2019-
local.description.firstpage111-
local.description.lastpage111-
Располагается в коллекциях:Scanning Probe Microscopy

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
978-5-9500624-2-1_2019_091.pdf158,2 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.