Моделирование электролитической ванны нанесения многослойных экранирующих покрытий

Abstract

В работе проведен расчет гальванической ванны формирования многослойных экранирующих покрытий Cu/(Ni+Cu) из ацетатного электролита, содержащего 0,03 моль/л СuАс2, 0,3 моль/л NiAc2 и 1,66 моль/л уксусной кислоты. По результатам поляризационных исследований выбраны значения плотностей тока импульсного режима нанесения покрытий и определен выход по току меди и никеля в период осаждения сплава Cu-Ni. Для обеспечения постоянного состава электролита предложено использовать нерастворимые аноды из нержавеющей стали и непрерывную циркуляцию электролита. Разработана схема потоков, позволяющая проводить корректировку состава раствора с использованием дополнительной сборной емкости. Рассчитан состав корректирующего потока, непрерывно подаваемого в сборную емкость.